随着企业对半导体需求的日益迫切，半导体企业如雨后春笋般迅速崛起，随着电子半导体行业蓬勃发展的同时，电子半导体废水排放问题也在不断显现。半导体企业排放的废水中含有大量金属物质，具有一定的腐蚀性，这类废水之所以难处理在于其中含有大量镉离子和氰离子，处理过程人工投入成本高，处理难度大且不彻底，所以寻求高效的废水处理技术至关重要。

　　半导体废水中的污染因子主要包括盐分、COD、总氮等物，可以分为高盐废水、高浓度有机废水和低浓度有机废水等。高盐废水需要进行脱盐处理后才能进行后续的生化处理；低浓度废水和经过预处理的高浓度废水和高盐废水混杂后进行生化处理，经过生化处理后的废水还需要进行深度处理后确保达标后才可以进行排放。

　　预处理工艺

　　（1）气浮工艺

　　气浮池主要应用少量微气泡扑捕捉吸附渺小颗粒胶黏物使之上浮，达到固液分离的结果。经过气浮池处理后的废水COD的去除率可以达到10%。

　　（2）铁碳微电解+Fenton氧化

　　铁碳微电解反应重生态具有很高的活性，可以和废水中多种组分发生氧化复原反应，结合Fenton试剂可以提高有机物的去除效果，废水COD去除率可以达到60%。

　　随着电子信息产业的迅速拓展，半导体行业的需求量越来越大，废水处理也日益重要，废水零排放作为环保行业的主流潮流和趋势，任何一家企业责无旁贷，应力求在技术上寻求突破，促进经济绿色可持续发展。